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J-GLOBAL ID：201002281848282083   整理番号：10A1147292

開始型化学蒸着によって蒸着した形状記憶ポリマ薄膜

Shape Memory Polymer Thin Films Deposited by Initiated Chemical Vapor Deposition

著者 (6件)： KRAMER Nicolaas J. (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD) ,  SACHTELEBEN Elmer (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD) ,  OZAYDIN-INCE Gozde (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts) ,  OZAYDIN-INCE Gozde (Sabanci Univ., Istanbul, TUR) ,  VAN DE SANDEN Richard (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD) ,  GLEASON Karen K. (Massachusetts Inst. of Technol., Massachusetts)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 43  号： 20  ページ： 8344-8347  発行年： 2010年10月26日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 開始型化学蒸着(iCVD)自立形状記憶ポリマ(SMP)薄膜をSMPの架橋度を調節することによって調製して,その特性を評価した。膜厚1~3μmのSMPの自立膜は下記の手順で調製した。1)開始剤tert-ブチルペルオキシド,スイッチ要素のアクリル酸tert-ブチル,架橋剤のジエチレングリコールジビニルエーテルを用いたiCVDを行って,ポリアクリル酸(PAA)を被覆したシリコンウエハへの蒸着,2)PAAの水によるエッチング。調製した自立膜の特性化をFTIR分光法,および動的機械分析で行った。その結果,自立膜のガラス転移点は約60°Cであり,形状固定比(shape fixity ratio)は63.6%であり,75°Cfrの形状回復率はバルクSMPのそれに類似していた。

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *蒸着膜 ,  *ラジカル重合 ,  重合開始剤 ,  *ポリアクリル酸ブチル ,  *重合体 ,  架橋剤 ,  ポリアクリル酸 ,  ウエハ【IC】 ,  キャラクタリゼーション ,  FTIR分光法 ,  動的機械分析 ,  ガラス転移点 ,  *回復 ,  *高分子薄膜
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  *形状回復 ,  *形状記憶ポリマ

分類 (3件)： 単独重合  (CG04020S) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (3件)： tert-ブチルペルオキシド ,  アクリル酸tert-ブチル ,  ジエチレングリコールジビニルエーテル

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学蒸着 ,  蒸着 ,  形状記憶 ,  ポリマ薄膜