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J-GLOBAL ID：201002281939667468   整理番号：10A0789816

選択的ニッケル認識のためのニッケル(II)インプリントモノリスカラム

Nickel(II)-Imprinted Monolithic Columns for Selective Nickel Recognition

著者 (5件)： DEMIRALAY Ebru Cubuk (Suleyman Demirel Univ., Isparta, TUR) ,  ANDAC Muge (Hacettepe Univ., Ankara, TUR) ,  SAY Ridvan (Anadolu Univ., Eskisehir, TUR) ,  ALSANCAK Guleren (Suleyman Demirel Univ., Isparta, TUR) ,  DENIZLI Adil (Hacettepe Univ., Ankara, TUR)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 117  号： 6  ページ： 3704-3714  発行年： 2010年09月15日 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N-メタクリロイル-L-ヒスチジンをNi²⁺イオンの錯化剤として用いて,Ni²⁺インプリントモノリスカラム(MC)を調製した。バルク重合で,ポリ(メタクリル酸ヒドロキシエチル-N-メタクリロイル-L-ヒスチジン)のMC(PHEMAH-MC)を調製した。PHEMAH-MCの水取込み比は,高分子構造でのニッケルイオンキャビティ形成のため,PHEMAHモノリスと比べて増加した。PHEMAH-MCの最大吸着能は0.211mg/gを示した。Fe³⁺,Cu²⁺,Zn²⁺に対する選択性実験では,PHEMAHモノリスに比べて,PHEMAH-MCは各イオンについて,268.8,25.5および10.4倍の高い選択性をそれぞれ示した。PHEMAH-MCは,繰返し使用してもNi²⁺吸着能は低下しなかった。

シソーラス用語： *クロマトグラフ用カラム ,  *ニッケル ,  選択性 ,  *分子認識 ,  *機能性高分子 ,  *高分子キレート化合物 ,  吸着 ,  鉄 ,  銅 ,  亜鉛 ,  金属イオン ,  *ニッケル錯体 ,  *高分子吸着剤 ,  錯体生成 ,  窒素複素環化合物 ,  第一アミン ,  オレフィン化合物 ,  カルボアミド
準シソーラス用語： *モノリスカラム

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  クロマトグラフィー,電気泳動  (CC01050S)

物質索引 (1件)： N^α-メタクリロイル-L-ヒスチジン

タイトルに関連する用語 (1件)： ニッケル