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J-GLOBAL ID：201002282191132473   整理番号：10A1018201

真空操作でモデリングをするな

Don’t Model in a Vacuum

著者 (2件)： SLOLEY Andrew ,  HENSON Scott
資料名： Chemical Processing (Itasca)  (Chemical Processing (Itasca))
巻： 73  号： 9  ページ： 35-36  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： B0327A  ISSN： 0009-2630  CODEN： CHPCA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： データの限界を理解し外挿法を使用することに気を付けなければならない。本稿では,最近の一つの事例として水/ポリマースラリー系での残留溶剤の除去に真空フラッシュを用いた例を挙げて説明した。

シソーラス用語： *真空 ,  *モデリング ,  *外挿法 ,  スラリー ,  高分子 ,  水 ,  除去 ,  フラッシュ蒸発
準シソーラス用語： 残留溶剤

分類 (1件)： 蒸留,蒸発  (XD02010F)

タイトルに関連する用語 (2件)： 真空 ,  モデリング