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J-GLOBAL ID：201002282312299451   整理番号：10A0257021

自立型CVDダイヤモンド厚膜の応力

Stress in Freestanding CVD Diamond Thick Film

著者 (5件)： LU W.Z. (Nanjing Univ. Aeronautics and Astronautics, Nanjing, CHN) ,  YUAN J.J. (Nanjing Univ. Aeronautics and Astronautics, Nanjing, CHN) ,  ZUO D.W. (Nanjing Univ. Aeronautics and Astronautics, Nanjing, CHN) ,  XU F. (Nanjing Univ. Aeronautics and Astronautics, Nanjing, CHN) ,  SUN Y.L. (Nanjing Univ. Aeronautics and Astronautics, Nanjing, CHN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 426/427  ページ： 564-567  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直流アークプラズマジェット化学蒸着(DCPCVD)法でMo基材上に準備した直径60mmの自立型ダイヤモンド厚膜の応力の研究を記述した。CVDダイヤモンド膜の応力を,X線回折とRamanスペクトルにより調べた。X線回折とRamanスペクトルで得た応力分布の傾向は,基本的に同一である。基材表面と最終表面の応力は,圧縮応力として現れた。最終の表面の圧縮応力は,基材表面の圧縮応力より低い(圧縮応力の絶対値が高い)。半径方向に沿う圧縮応力は,最終表面と基材表面とも,膜中心の圧縮応力が,端の応力より低い。

シソーラス用語： *ダイヤモンド ,  *応力 ,  プラズマCVD ,  蒸着膜 ,  厚膜 ,  モリブデン ,  基板 ,  応力分布 ,  X線応力測定 ,  圧縮応力 ,  半径方向 ,  Ramanスペクトル
準シソーラス用語： ダイヤモンド膜 ,  *自立膜

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 自立 ,  CVDダイヤモンド ,  厚膜 ,  応力