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J-GLOBAL ID：201002282947415164   整理番号：10A0847757

TiN(111)/VN(111)界面における電子特性と結合配置

Electronic property and bonding configuration at the TiN(111)/VN(111) interface

著者 (4件)： YIN Deqiang (Dep. of Engineering Mechanics, Chongqing Univ., Chongqing 400044, People’s Republic of China) ,  PENG Xianghe (Dep. of Engineering Mechanics, Chongqing Univ., Chongqing 400044, People’s Republic of China) ,  QIN Yi (Dep. of Design, Manufacture, and Engineering Management, Univ. of Strathclyde, Glasgow G1 1XQ, Scotland, GBR) ,  WANG Zhongchang (WPI Res. Center, Advanced Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 108  号： 3  ページ： 033714  発行年： 2010年08月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiN(111)/VN(111)から成る多層被膜は多くの技術的応用が期待されている。また,これらの内部界面の振る舞いは,工学表面系における機能性に影響を及ぼすと考えられている。本稿では,36の対象とする界面のエネルギーと電子構造に関する第一原理計算から,優先的な配置(即ち,最大の付着エネルギーを持つ配置)は原子的および電子的な双方の観点からバルクの窒化物の界面構造を保持する配置であることが明らかになった。幾つかの解析的な方法を用いて電子状態を全面的に評価し,界面の結合は主にイオン的であるが,共有結合性も少し残っていることが分かった。得られた理論計算から,実験だけで得ることが困難であるが,このような多層被膜の性質を原子スケールで理解し,また改善するために非常に重要である実用的なTiN/VN界面の複雑な電子特性に関する情報を得ることができた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *チタン化合物 ,  *窒化物 ,  *バナジウム化合物 ,  *多層膜 ,  皮膜 ,  *バンド構造 ,  界面 ,  化学結合 ,  イオン結合 ,  共有結合 ,  状態密度 ,  薄膜
準シソーラス用語： *窒化チタン ,  *窒化バナジウム

分類 (2件)： 金属結晶の電子構造  (BM02050C) ,  電子構造一般  (BM02010K)

タイトルに関連する用語 (3件)： TiN ,  界面 ,  電子