バイアス増強プラズマ化学気相堆積により作製された制御されたミクロ組織と組成を有する水素化非晶質炭素膜の摩擦学的研究

BUIJNSTERS J.g.; BUIJNSTERS J.g.; CAMERO M.; VAZQUEZ L.; AGULLO-RUEDA F.; GAGO R.; JIMENEZ I.; GOMEZ-ALEIXANDRE C.; ALBELLA J.m.

文献

J-GLOBAL ID：201002283343991686 整理番号：10A0761789

バイアス増強プラズマ化学気相堆積により作製された制御されたミクロ組織と組成を有する水素化非晶質炭素膜の摩擦学的研究

Tribological study of hydrogenated amorphous carbon films with tailored microstructure and composition produced by bias-enhanced plasma chemical vapour deposition

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資料名：
巻： 19 号： 7-9 ページ： 1093-1102 発行年： 2010年07月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

我々は,シリコン基板上の水素化非晶質炭素(a-C:H)膜の機械的および摩擦特性を,ボールオンディスク摩擦計とスクラッチ試験により研究した。a-C:H膜はバイアス増強電子サイクロトロン共鳴化学気相堆積(ECR-CVD)によりアルゴン/メタン混合気から堆積させた。我々は,基板バイアスが直接a-C:H膜の硬度,摩擦および摩耗抵抗に影響することを見出した。重合体からフラーレン状カーボンコーティングへのバイアス制御転移に起因する,これら特性の急峻な変化が約-100Vの基板バイアスにおいて認められた。大気条件においてWC-Coボールミルに対して試験した時,重合体膜に対して0.28~0.39の範囲の摩擦係数と約7×10^-5mm³/Nmの摩耗速度が得られた。一方,100eV以上のイオンエネルギーで作製したフラーレンライク水素化カーボン膜は,17GPaのナノ硬度,摩擦係数の大きい減少(~0.10)および摩耗抵抗の激しい増大(約1×10^-7mm³/Nm)を示した。これらの膜に対して,相対湿度は摩擦に対して有害な効果を有するが,摩耗速度との相関は認められなかった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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炭素とその化合物 , その他の無機化合物の薄膜

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