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J-GLOBAL ID：201002283701060150   整理番号：10A1459397

湿潤化とアニーリングによる極薄,超平坦,低損失銀膜

Ultrathin, ultrasmooth, and low-loss silver films via wetting and annealing

著者 (5件)： CHEN W. (Birck Nanotechnology Center and School of Electrical and Computer Engineering, Purdue Univ., West Lafayette, 47907 ...) ,  CHEN K. P. (Birck Nanotechnology Center and School of Electrical and Computer Engineering, Purdue Univ., West Lafayette, 47907 ...) ,  THORESON M. D. (Erlangen Graduate School in Advanced Optical Technologies (SAOT), Universitaet Erlangen-Nuernberg, 91052 Erlangen, DEU) ,  KILDISHEV A. V. (Birck Nanotechnology Center and School of Electrical and Computer Engineering, Purdue Univ., West Lafayette, 47907 ...) ,  SHALAEV V. M. (Birck Nanotechnology Center and School of Electrical and Computer Engineering, Purdue Univ., West Lafayette, 47907 ...)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 97  号： 21  ページ： 211107  発行年： 2010年11月22日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱アニーリング処理はGe湿潤層上に蒸着した極薄,超平坦,低損失銀膜中の光学損失を,塊状材料値の低さにまで低減できると同時に,超平坦表面を維持できることを実証した。アニーリング効果はアニーリングの温度と時間に敏感で,両方を注意深く制御する必要がある。このアニーリング処理はAg-SiO₂多層複合膜対しても効果がある。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *熱処理 ,  *超薄膜 ,  銀 ,  *金属薄膜 ,  平坦性 ,  温度依存性 ,  複合膜 ,  二酸化ケイ素 ,  半導体薄膜
準シソーラス用語： *熱アニーリング ,  超平坦

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： アニーリング ,  極 ,  平坦 ,  低損失 ,  銀