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J-GLOBAL ID：201002283733966623   整理番号：10A1251122

ゾル-ゲル法によるガラス上への高度(002)配向ZnO薄膜の作製

Fabrication of highly oriented (002) ZnO film on glass by sol-gel method

著者 (2件)： HO Yung-shou ,  LEE Kuan-yi
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 519  号： 4  ページ： 1431-1434  発行年： 2010年12月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高品質(002)ZnO薄膜をガラス基板上にゾル-ゲルスピンコートプロセスで堆積した。特にアニーリング温度の効果を調べるために,堆積したままの薄膜を空気中で異なる温度でポストアニールした。前駆体ゾルの化学組成と薄膜加熱プロセスにおいて生成する中間物を熱重量分析/示差熱分析(TGA/DTA)で解析した。ZnO薄膜の微細構造と光学的性質をX線回折(XRD),電界放射形走査電子顕微鏡(FESEM),紫外可視分光(UV-Vis),及び光ルミネセンスで特性評価した。TGA/DTAから200-300°C周辺で著しい重量損失が生じ,300°Cで重量は安定化することがわかった。XRDパターンにおける極端に鋭い(002)回折ピークはこれらの薄膜の結晶化度における高度な選好性を示している。FESEM像はこれらの薄膜はポストアニール温度が400°Cから500°Cに上昇すると10nmから25nmのサイズ範囲の粒子で埋められ,600°Cでは多孔性薄膜に変わることを明らかにした。UV-Visはこれらの薄膜は可視光の下で高度に透明であり,380nmの紫外領域に鋭い吸収ピークを有することを示した。ZnO薄膜の光学バンドギャップの測定値は3.24-3.26eVのあたりにある。光ルミネセンススペクトルは約520nmにある弱い欠陥関連発光と共に,近バンド端発光に対応する約390nmに中心を持つ強いUV発光を明らかにした。UV発光強度はアニーリング温度と共に増大した。これはより高温でのアニールがより高品質のZnO薄膜をもたらすことを示している。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  透明導電膜 ,  *優先配向 ,  *ゾル-ゲル法 ,  スピンコーティング ,  熱重量分析 ,  示差熱分析 ,  X線回折 ,  電子顕微鏡観察 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  *光学ギャップ ,  *光学定数 ,  *光ルミネセンス ,  紫外可視発光スペクトル ,  焼なまし ,  結晶度
準シソーラス用語： ガラス基板

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾル-ゲル法 ,  ガラス ,  高度 ,  配向 ,  ZnO薄膜 ,  作製