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J-GLOBAL ID:201002283955636109   整理番号:10A1049124

ナノ空洞を持つ銅(001)膜へのナノインデンテーションの初期転位トポロジー

Initial dislocation topologies of nanoindentation into copper (001) film with a nanocavity
著者 (2件):
資料名:
巻: 77  号: 16  ページ: 3329-3340  発行年: 2010年11月 
JST資料番号: A0119A  ISSN: 0013-7944  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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QCMを用いて,ナノ空洞を持つ銅膜の(001)表面へのナノインデンテーションにおけるマルチスケール調査を提示した。膜の初期塑性に相当する初期転位核形成のトポロジーはナノ空洞の異なる形状に対して変化した。それは薄膜の上面からのその相対的位置とナノ空洞の水平と垂直の幾何学的パラメータによってとてもうまく決定された。特別の幾何学的パラメータを持つナノ空洞では,システムの全エネルギーの変化はナノ空洞の崩壊による荷重過程で興味あるナノ増加傾向を示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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金属薄膜 

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