スパッタリング成膜への水の利用

阿部良夫

文献

J-GLOBAL ID：201002284187788847 整理番号：10A1100198

スパッタリング成膜への水の利用

Utilization of Water Vapor for Sputter Deposition of Thin Films

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著者 (1件)：
資料名：
巻： 53 号： 9 ページ： 515-520 (J-STAGE) 発行年： 2010年
JST資料番号： G0194A ISSN： 1882-2398 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

スパッタリング堆積時に,水蒸気を計画的に添加することによって,金属薄膜と酸化薄膜の構造および,物理的化学的特性を制御する方法が最近注目されている。本報告は,水蒸気を添加することによって薄膜特性が改善できた事例を記述したものである。スパッタリングガスに水蒸気を添加することによって,金属膜では,結晶配向,表面形態,酸化膜ではエッチング速度を改善できた。また,反応ガスとして水蒸気を用いて,水酸化物膜と水和物膜の形成を試みた。H₂O分子は,プラズマの中でH原子とOHラジカルに解離し,これらの活性種が堆積薄膜に混入して,水和物膜のプロトン伝導性が改善できた。

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薄膜成長技術・装置

引用文献 (49件)：

1) A. Kinbara: Supattaringu Genshou (Sputtering Phenomena) (Univ. Tokyo Press, Tokyo, 1984) p. 137 and p. 167 [in Japanese].
2) A. Morimoto: in Hakumaku Handbook (Thin Film Handbook), ed. The 131st Committee on Thin Films, Japan Society for the Promotion of Science (Ohmsha, Tokyo, 2008) 2nd ed. Chap. 1, p.44 [in Japanese].
3) E. Kusano, S. Baba and A. Kinbara,: J. Vac. Sci. Technol. A, 10 (1992) 1696.
4) H. Kobayashi: Supatta Hakumaku (Sputtering of Thin Films), (Nikkan Kogyo Shinbun, Tokyo, 1993) p. 81 [in Japanese].
5) T. Asamaki: Hakumaku Sakusei no Kiso (Fundamentals of Thin Films Formation) (Nikkan Kogyo Shinbun, Tokyo, 2005) 4th ed., p. 219 [in Japanese].

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