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J-GLOBAL ID：201002284197642654   整理番号：10A0580442

エルビウムをドープしたLu₂SiO₅の結晶成長と分光学的性質

Crystal growth and spectroscopic properties of erbium doped Lu₂SiO₅

著者 (4件)： DING Yuchong (Key Lab. of Materials for High Power Laser, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  DING Yuchong (Graduate School of Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100039, CHN) ,  ZHAO Guangjun (Key Lab. of Materials for High Power Laser, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  XU Xiaodong (Key Lab. of Materials for High Power Laser, Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences ...)
資料名： Journal of Crystal Growth  (Journal of Crystal Growth)
巻： 312  号： 14  ページ： 2103-2106  発行年： 2010年07月01日 
JST資料番号： B0942A  ISSN： 0022-0248  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高い光学的品質のエルビウムドープLu₂SiO₅単結晶を,Czochralski法によって成長させた。Er³⁺の分布係数を測定し,約0.926を得た。吸収スペクトル,発光スペクトル,励起状態⁴I_13/2の蛍光減衰曲線を室温で測定した。Judd-Ofelt(J-O)理論を用いて分光学的パラメータを計算し,J-OパラメータはΩ₂=4.451×10^-20cm²,Ω₄=1.614×10^-20cm²,Ω₆=1.158×10^-20cm²であることを見いだした。Er³⁺の⁴I_13/2→⁴I_15/2遷移の室温での蛍光寿命を測定し,7.74msを得た。眼に安全な領域1400~1700nmでの吸収断面積,発光断面積,利得断面積も決定し,検討した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ケイ酸塩 ,  ルテチウム化合物 ,  単結晶 ,  *Czochralski法 ,  ドーピング ,  エルビウム ,  *光吸収スペクトル ,  *赤外発光スペクトル ,  誘導放出 ,  蛍光寿命 ,  利得 ,  光増幅
準シソーラス用語： Judd-Ofeltパラメータ ,  *ケイ酸ルテチウム ,  光学利得 ,  分布係数

分類 (3件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  無機化合物の可視・紫外スペクトル  (BM08084P) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (4件)： エルビウム ,  ドープ ,  結晶成長 ,  分光学的性質