文献

J-GLOBAL ID：201002284561458090   整理番号：10A0329619

位相マスク干渉法によるファイバブラッググレーティングを用いた負帰還半導体光増幅器の雑音抑制効果

Noise Reduction Effect of Negative Feedback Semiconductor Optical Amplifiers Using Fiber Bragg Gratings Based on Phase Mask Interferometer

著者 (6件)： 前田佳伸 (近畿大 理工) ,  前田佳伸 (光トライオード) ,  谷本浩一 (近畿大 理工) ,  松尾達弥 (近畿大 理工) ,  高木正和 (タツタ電線) ,  中山秀樹 (光トライオード)
資料名： レーザー研究  (レーザー学会誌)
巻： 38  号： 3  ページ： 219-224  発行年： 2010年03月15日 
JST資料番号： X0335A  ISSN： 0387-0200  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 位相マスク干渉法を用いて,周囲光の帰還を実現するために特別に設計した反射波長特性を有する光ファイバ型フィルタ(FBG:ファイバブラッググレーティング)を作成した。これを搭載した光ファイバの先端をレンズ化し,InGaAsP-InPリッジタイプの半導体光増幅器(SOA)と結合させて負帰還SOAを構成した。波長可変レーザ光源から得られた種々の波長のレーザ光を強度調整して入力信号光として,負帰還光増幅効果により出力光の波形歪みの低減が可能であることを実験的に検証した。入力信号のビット誤り率や雑音依存性などの波長依存性を測定し,FBGの中心透過波長である1550nmを用いた場合,10Gbpsの疑似ランダム信号を用いたビット誤り率の測定において,他波長に比べて開口率が良好なアイパターンを観測するとともに,他波長に比べてビット誤り率を低く抑制できることが分かった。さらに雑音特性は5.1dBに低減された。

シソーラス用語： *回折格子 ,  *半導体光増幅器 ,  雑音発生防止 ,  化合物半導体 ,  ヒ化リン化インジウムガリウム ,  リン化インジウム
準シソーラス用語： *FBG ,  雑音抑制 ,  *負帰還半導体光増幅器

分類 (1件)： 半導体レーザ  (BD04070L)

引用文献 (9件)：

• MAEDA, Y. IEEE Photon. Technol. Lett. 2003, 15, 257
• 前田佳伸. レーザー研究. 2005, 33, 189
• GLANCE, B. Electron. Lett. 1992, 28, 1714
• MAEDA, Y. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 101108
• BACHMANN, M. Electron. Lett. 1996, 32, 2076

タイトルに関連する用語 (7件)： 位相 ,  マスク ,  干渉法 ,  ファイバブラッググレーティング ,  負帰還半導体光増幅器 ,  雑音 ,  抑制効果