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J-GLOBAL ID:201002284599094831   整理番号:10A1054638

溶液に曝された黄銅鉱と黄鉄鉱を含む不均質な黄銅鉱のシンクロトロンXPS,NEXAFS,およびToF-SIMSによる研究

Synchrotron XPS, NEXAFS, and ToF-SIMS studies of solution exposed chalcopyrite and heterogeneous chalcopyrite with pyrite
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巻: 23  号: 11-13  ページ: 928-936  発行年: 2010年10月 
JST資料番号: T0533A  ISSN: 0892-6875  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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2個の純粋な黄銅鉱サンプル(滑らかな断面を持つ1個;粗い破面を持つ1個)上に存在する表面化学種,さらには黄銅鉱と黄鉄鉱の両方を含む1個の不均質試料が,シンクロトロンX線光電子分光法(SXPS),X線吸収端蛍光分光法(NEXAFS),および飛行時間型二次イオン質量分析(ToF-SIMS)を用いて研究された。測定は,N2で破砕された試料と,それに続いてpH1のHCl溶液に2時間曝した試料について行った。新たに破砕された鉱物表面と溶液曝露鉱物表面の比較により,黄銅鉱表面化学種の発達に対する他の鉱物相の役割,および表面化学種の発達に対する黄銅鉱粒度の役割に関する調査を説明した。各試料の黄銅鉱領域の分析によると,表面粗さの増加および黄銅鉱と密接に接触している黄鉄鉱の存在は,表面硫黄種の形成を増加させることを示す。表面硫黄種の形成は,浸出黄銅鉱表面における不動態化膜の形成に関係する。黄銅鉱のToF-SIMS分析と不均一試料の黄鉄鉱領域は,シンクロトロン表面検査実験から得られた結論を支持している。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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浮遊選鉱  ,  鉱物・岩石・鉱石の物理分析 

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