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J-GLOBAL ID：201002285342019193   整理番号：10A0435158

ZnSセラミックの結晶方位,微細構造および光学的性質に対するCVD後の熱処理の影響

Effect of post-CVD thermal treatments on crystallographic orientation, microstructure, mechanical and optical properties of ZnS ceramics

著者 (7件)： BISWAS P. (International Advanced Res. Centre for Powder Metallurgy and New Materials, Hyderabad 500005, IND) ,  KUMAR R. Senthil (International Advanced Res. Centre for Powder Metallurgy and New Materials, Hyderabad 500005, IND) ,  RAMAVATH P. (International Advanced Res. Centre for Powder Metallurgy and New Materials, Hyderabad 500005, IND) ,  MAHENDAR V. (International Advanced Res. Centre for Powder Metallurgy and New Materials, Hyderabad 500005, IND) ,  RAO G.v.n. (International Advanced Res. Centre for Powder Metallurgy and New Materials, Hyderabad 500005, IND) ,  HAREESH U.s. (International Advanced Res. Centre for Powder Metallurgy and New Materials, Hyderabad 500005, IND) ,  JOHNSON R. (International Advanced Res. Centre for Powder Metallurgy and New Materials, Hyderabad 500005, IND)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 496  号： 1-2  ページ： 273-277  発行年： 2010年04月30日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)による硫化亜鉛(ZnS)試料についてアルゴン中での熱間等方プレス(HIP)および無加圧の焼結条件での熱処理(HT)を行った。結晶方位,微細構造,光学的および機械的性質に対する温度および圧力の影響を調べた。CVD+HT試料において観察されるように,CVD状態のZnSで観察されるZn-H吸収帯の除去は温度上昇だけで起きる。しかし,中赤外領域での透過率の著しい減少が観察され,これはCVD+HT処理での残留ポアの形成に帰される。温度と圧力を同時にかけるHIP処理においてはZn-H帯およびZn-Hの除去中に形成した残留ポアは消失する。それによる散乱中心の著しい低減のために中赤外領域および可視スペクトル領域での透過率は上昇する。結晶粒径の著しい増大が(111)結晶面に沿う優先方位の明らかな増大をともなって起き,それはHIPあるいは無加圧の熱処理(HT)条件下での横方向のXRD強度比の増大により確認される。試料の機械的性質の劣化も生じた。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 機能性セラミック ,  化学蒸着 ,  *硫化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  HIP【ホットプレス】 ,  *赤外吸収スペクトル ,  吸収バンド ,  可視吸収スペクトル ,  空洞 ,  *優先配向 ,  微細構造 ,  押込硬さ ,  曲げ強さ ,  *後熱処理

分類 (2件)： 半導体の赤外スペクトル及びRaman散乱・Ramanスペクトル  (BM08066B) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (7件)： ZnS ,  セラミック ,  結晶方位 ,  微細構造 ,  光学的性質 ,  CVD ,  熱処理