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J-GLOBAL ID：201002285493401995   整理番号：10A0617251

パルスレーザ蒸着により調製したEuO膜の特性に及ぼすGdドーピングと酸素空孔の効果

Effects of Gd Doping and Oxygen Vacancies on the Properties of EuO Films Prepared via Pulsed Laser Deposition

著者 (8件)： WANG Xianjie (Univ. Wyoming, WY, USA) ,  LIU Pan (Univ. Wyoming, WY, USA) ,  FOX Kyle A. (Univ. Wyoming, WY, USA) ,  TANG Jinke (Univ. Wyoming, WY, USA) ,  SANTANA Juan A.Colon (Univ. Nebraska-Lincoln, NE, USA) ,  BELASHCHENKO Kirill (Univ. Nebraska-Lincoln, NE, USA) ,  DOWBEN Peter A. (Univ. Nebraska-Lincoln, NE, USA) ,  SUI Yu (Harbin Inst. Technol., Harbin, CHN)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 46  号： 6  ページ： 1879-1882  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ蒸着法を用いてSi(100)ウェハ上にEuO及びGdをドープしたEu_0.96Gd_0.04O膜を蒸着し,磁気特性に及ぼすGdのドーピング及び酸素空孔の効果を調べた。GdをドープしないEuO膜は(100)テクスチャー組織を示したが,Gdを4%ドープしたEu_0.96Gd_0.04O膜は格子定数が変化し,(111)テクスチャー組織が成長した。酸素空孔を導入したEuO_1-x膜及びGdをドープしたEu_0.96Gd_0.04O_1-x膜では,EuO薄膜に比較してCurie温度(T_C)が著しく上昇した。Gdのドーピングと酸素空孔の導入によりもたらされた磁気特性の相違を,誘起したキャリアの相違から議論した。

シソーラス用語： *酸化ユウロピウム ,  *ガドリニウム ,  ドーピング ,  空格子点 ,  酸素 ,  格子定数 ,  Curie温度 ,  *磁気的性質 ,  キャリア生成 ,  蒸着膜 ,  レーザ蒸着 ,  パルスレーザ蒸着

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物結晶の磁性  (BM06050E)

タイトルに関連する用語 (5件)： パルスレーザ蒸着 ,  調製 ,  Gd ,  ドーピング ,  酸素空孔