文献

J-GLOBAL ID：201002285839058362   整理番号：10A0918283

高温でアニールしたハフニア-チタニアナノラミネートにおける結晶化,準安定相,及び分離

Crystallization, metastable phases, and demixing in a hafnia-titania nanolaminate annealed at high temperature

著者 (2件)： CISNEROS-MORALES Massiel C. (Dep. of Chemistry and Biochemistry, Univ. of Wisconsin-Milwaukee, P.O. Box 413, Milwaukee, Wisconsin 53201) ,  AITA Carolyn Rubin (Dep. of Chemistry and Biochemistry, Univ. of Wisconsin-Milwaukee, P.O. Box 413, Milwaukee, Wisconsin 53201)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 28  号： 5  ページ： 1161  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 名目5nm HfO₂-4nm TiO₂二層アーキテクチャを有するナノラミネート膜を,無加熱溶融シリカ及び金コートガラス基板上にスパッタ蒸着した。溶融シリカ上の膜は,573から1273Kまでポスト堆積アニールし,X線回折,走査電子顕微鏡,Raman顕微鏡,及びUV-可視-近IR分光光度測定によりキャラクタライズした。膜は,973Kまでアニールしたとき,弱いが,斜方晶(o)HfTiO₄への進行性結晶化を示した。o-HfTiO₄は,二層成分の完全な混合の場合に,バルク熱力学的平衡条件下において形成すると予想された。973Kを越えるアニーリングは,バルク熱力学では予測されない,究極的には,Tiでドープした単斜晶HfO₂及びHfでドープしたルチルTiO₂を形成するo-HfTiO₄分離を含む結晶化系列を生み出した。これらの相は,o-HfTiO₄より高い原子密度をもち,離散的なメソスコピック特徴へ偏析した。より高い密度層へのo-HfTiO₄分離が,高温における熱ストレス除去に関する機構であることを提案した。分離は,可視及び紫外スペクトル領域における光学的透明度の主な損失を生じた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化ハフニウム ,  *酸化チタン ,  石英ガラス ,  金 ,  被覆 ,  *スパッタ蒸着 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  斜方晶系 ,  *結晶化 ,  偏析 ,  誘電体薄膜 ,  透明材料 ,  *光吸収スペクトル ,  準安定相 ,  相分離 ,  *光学定数 ,  顕微Raman分光法 ,  焼なまし
準シソーラス用語： チタニア ,  ナノラミネート

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： アニール ,  ハフニア ,  結晶化 ,  準安定相