文献

J-GLOBAL ID：201002285981542018   整理番号：10A1140182

MgO(100)/Mo(100)上のトリクロロエチレン(TCE)の吸着研究

Adsorption studies of trichloroethylene (TCE) on MgO(100)/Mo(100)

著者 (7件)： KUNZ S. ,  SCHWEINBERGER F.f. ,  KWON G. ,  KIERMAIER J. ,  LE MOAL S. ,  HENRY C. ,  HEIZ U.
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 604  号： 23-24  ページ： 2184-2189  発行年： 2010年11月 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 紫外光電子分光法(UPS,He I)を用いて,Mo(100)単結晶に成長したMgO(100)薄膜上の汚染物質トリクロロエチレン(TCE)の吸着特性の表面敏感準安定衝撃電子分光法(MIES)と昇温脱離(TPD)測定を研究した。各種被覆率のTPDスペクトルから,TCEが(物理吸着に帰される)MgOとごく弱く相互作用すると結論付けた。被覆率を増大させると,TPDスペクトルに一本のピークから二本のピークへの変化を検出した。単一ピークに対して一本はより高温に,もう一本はより低温にある。さらに,MIESとUPSスペクトル両方の仕事関数(WF)の極小の観察を示した。そのような極小は以前に,遷移金属基板上の外殻s価電子を持つ金属の吸着と金属酸化膜上の外殻s価電子を持つ金属の吸着について報告されている。ここでは,絶縁表面に吸着した有機分子系について観察した最初のWF最小を示した。示した結果を理解するために,二つの異なるモデルについて議論した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化マグネシウム ,  モリブデン ,  *吸着 ,  光電子分光法 ,  単結晶 ,  汚染物質 ,  昇温脱離 ,  表面 ,  準安定状態 ,  被覆率 ,  仕事関数 ,  基板 ,  価電子 ,  酸化膜 ,  絶縁材料 ,  有機化合物 ,  *誘電体薄膜 ,  脂肪族塩素化合物 ,  オレフィン化合物 ,  絶縁体
準シソーラス用語： 紫外光電子分光 ,  衝撃電子分光法

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： トリクロロエチレン

タイトルに関連する用語 (6件)： MgO ,  Mo ,  トリクロロエチレン ,  TCE ,  吸着 ,  研究