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J-GLOBAL ID：201002286109993097   整理番号：10A0453529

Al₂O₃,SiC,Nb₂N,Ta₂N粒子を含んだCr(III)硫酸-シュウ酸塩溶液からの複合Cr膜の電気めっき

Electrodeposition of Composite Chromium Coatings from Cr(III) Sulfate-Oxalate Solution Suspensions Containing Al₂O₃, SiC, Nb₂N, and Ta₂N Particles

著者 (3件)： POLYAKOV N. A. (Inst. of Physical Chemistry and Electrochemistry, Russian Acad. of Sci., Moscow, RUS) ,  POLUKAROV Yu. M. (Inst. of Physical Chemistry and Electrochemistry, Russian Acad. of Sci., Moscow, RUS) ,  KUDRYAVTSEV V. N. (Mendeleev Univ. Chemical Technol. of Russia, Moscow, RUS)
資料名： Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces  (Protection of Metals and Physical Chemistry of Surfaces)
巻： 46  号： 1  ページ： 75-81  発行年： 2010年01月 
JST資料番号： W1019A  ISSN： 2070-2051  CODEN： PTNMAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cr膜の機械特性改善を目的として,硬質粒子を膜中に分散させる方法が試みられている。Al₂O₃,SiC,Nb₂N,Ta₂N粒子を含んだCr(III)硫酸-シュウ酸塩溶液からの複合Cr膜の電気めっきを行い,膜組成,膜中に粒子が取り込まれるメカニズム,表面形状,物理特性を調査した。絶縁性のAl₂O₃,半導性のSiC粒子と導電性のNb₂N,Ta₂N粒子では膜中への析出挙動が異なり,前者はCr表面との接着力がないため深さ方向に分布を持つが,後者はCr表面との接着力が大きいため,膜中の分布は均一である。粒子の添加によって,非晶質Cr膜には変化は見られなかった。Al₂O₃,SiC粒子の添加によって膜の硬さは10~11GPaに上昇し,Nb₂N,Ta₂N粒子では6~8GPaに減少した。

シソーラス用語： *複合めっき ,  *クロムめっき ,  電気めっき ,  アルミナ ,  炭化ケイ素 ,  ニオブ化合物 ,  窒化物 ,  タンタル化合物 ,  *分散粒子 ,  半導性 ,  導電性 ,  析出 ,  付着力 ,  硬度
準シソーラス用語： 窒化ニオブ ,  窒化タンタル ,  絶縁

分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (7件)： Al2O3 ,  SiC ,  Cr ,  硫酸 ,  シュウ酸塩 ,  溶液 ,  電気めっき