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J-GLOBAL ID：201002286181204765   整理番号：10A1073018

UV表面グラフト反応による中空糸の改質

Modification of hollow fibers by UV surface grafting

著者 (6件)： BILONGO T. Goma (Univ. de Toulouse, INPT, UPS, Lab. de Genie Chimique, F-31062 Toulouse cedex 09, FRA) ,  BILONGO T. Goma (CNRS, Lab. de Genie Chimique, F-31062 Toulouse cedex 09, FRA) ,  REMIGY J.-c. (Univ. de Toulouse, INPT, UPS, Lab. de Genie Chimique, F-31062 Toulouse cedex 09, FRA) ,  REMIGY J.-c. (CNRS, Lab. de Genie Chimique, F-31062 Toulouse cedex 09, FRA) ,  CLIFTON M.j. (Univ. de Toulouse, INPT, UPS, Lab. de Genie Chimique, F-31062 Toulouse cedex 09, FRA) ,  CLIFTON M.j. (CNRS, Lab. de Genie Chimique, F-31062 Toulouse cedex 09, FRA)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 364  号： 1-2  ページ： 304-308  発行年： 2010年11月15日 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 限外ろ過用のポリスルフォン製中空糸膜の外部表面層をUV光グラフト反応により改質した。膜表面にグラフトしたモノマーはジアリルジメチルアンモニウムクロリド(DADMAC)で,これは表面を親水性にし,膜細孔を閉じ,表面上に正電荷サイトを付加した。光強度を変えて異なるUV照射量を得た。未処理の膜に比べて膜透過率が減少し,MWCOが高いままにもかかわらずカルシウムイオンの高い保持率が得られた。イオン保持はイオンと膜電荷の間の静電気反撥によりコントロールされた。一定のライン速度でUV量を増加すると膜の透過率が減少し,選択性が増加した。これはナノろ過用の中空糸製造への第一歩である。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *紫外線照射 ,  *表面反応 ,  *グラフト共重合 ,  *中空繊維 ,  *表面改質 ,  *限外濾過 ,  *ポリスルホン ,  高分子分離膜 ,  親水性 ,  細孔 ,  電荷 ,  放射強度 ,  膜透過 ,  透過率 ,  透過流束 ,  カルシウム化合物 ,  金属イオン ,  保持 ,  静電相互作用 ,  選択性 ,  硬度 ,  ポリエチレンオキシド
準シソーラス用語： ポリエチレングリコール ,  光強度 ,  正電荷

分類 (2件)： その他の高分子材料  (YH07150C) ,  膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (2件)： N,N′-メチレンビスアクリルアミド ,  ジアリルジメチルアンモニウムクロリド

タイトルに関連する用語 (3件)： グラフト反応 ,  中空糸 ,  改質