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J-GLOBAL ID：201002286668331541   整理番号：10A0523536

共焦点Raman顕微鏡法を用いたレーザ改質融解シリカ中の微細構造緩和現象の解析

Analysis of microstructural relaxation phenomena in laser-modified fused silica using confocal Raman microscopy

著者 (5件)： MATTHEWS Manyalibo J. (Lawrence Livermore National Lab., 7000 East Avenue, L-592, Livermore, California 94550-9234, USA) ,  VIGNES Ryan M. (Lawrence Livermore National Lab., 7000 East Avenue, L-592, Livermore, California 94550-9234, USA) ,  COOKE Diane (Lawrence Livermore National Lab., 7000 East Avenue, L-592, Livermore, California 94550-9234, USA) ,  YANG Steven T. (Lawrence Livermore National Lab., 7000 East Avenue, L-592, Livermore, California 94550-9234, USA) ,  STOLKEN James S. (Lawrence Livermore National Lab., 7000 East Avenue, L-592, Livermore, California 94550-9234, USA)
資料名： Optics Letters  (Optics Letters)
巻： 35  号： 9  ページ： 1311  発行年： 2010年05月01日 
JST資料番号： H0690A  ISSN： 0146-9592  CODEN： OPLEDP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 限局化した10.6μmCO₂レーザ加熱に関連した融解シリカの微細構造変化を報告した。SiO₂の高周波非対称伸長横光学フォノンモードの空間分解した偏移を,共焦点Raman顕微鏡法を用いて測定し,種々のレーザ加熱条件に対して軸仮想温度(T_f)マップを構築した。Fourier伝導に基づく有限要素モデルを用いて軸上温度-時間履歴を計算し,構造緩和に対するTool-Narayanaswamy形式に関連して,T_f(z)プロファイルに当てはめて緩和パラメータを求めた。T_fの計算値と測定値は非常に良く一致し,レーザ改質シリカの緩和時間と活性化エンタルピーに対する妥当な値を得た。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 共焦点顕微鏡 ,  *顕微Raman分光法 ,  *石英ガラス ,  微細構造 ,  *構造緩和 ,  フォノン ,  光学モード ,  レーザ加熱 ,  有限要素法 ,  エンタルピー ,  緩和時間
準シソーラス用語： 融解シリカ ,  横光学フォノン

分類 (1件)： 無機化合物の赤外・Ramanスペクトル(分子)  (BH06032B)

タイトルに関連する用語 (7件)： 共焦点Raman顕微鏡 ,  レーザ ,  改質 ,  融解シリカ ,  微細構造 ,  緩和現象 ,  解析