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J-GLOBAL ID：201002286843524501   整理番号：10A0311797

吸着シリカナノ粒子の予期しない容易なラテックス間再分配

Unexpected Facile Redistribution of Adsorbed Silica Nanoparticles Between Latexes

著者 (8件)： BALMER Jennifer A. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  MYKHAYLYK Oleksandr O. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  FAIRCLOUGH J. Patrick A. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  RYAN Anthony J. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  ARMES Steven P. (Univ. Sheffield, Sheffield, GBR) ,  MURRAY Martin W. (AkzoNobel, Berkshire, GBR) ,  MURRAY Kenneth A. (AkzoNobel, Berkshire, GBR) ,  WILLIAMS Neal S. J. (AkzoNobel, Berkshire, GBR)
資料名： Journal of the American Chemical Society  (Journal of the American Chemical Society)
巻： 132  号： 7  ページ： 2166-2168  発行年： 2010年02月24日 
JST資料番号： C0254A  ISSN： 0002-7863  CODEN： JACSAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 著者らが開発した方法で作製したシリカ粒子(20nm)が完全吸着(単分子層)したポリ(2-ビニルピリジン)(P2VP)ラテックスのコロイド溶液に,新たにP2VPラテックスを添加すると,ラテックス間でシリカ粒子の再分配が起り,P2VPラテックスはシリカにより部分吸着(サブ単分子層)された状態となることを見出した。再分配が起っているという結論は,次の実験結果から導き出した。(1)シリカが完全吸着したP2VP-シリカナノコンポジットを450°Cでか焼すると,シリカカプセルが形成されるが,部分吸着の場合はシリカ殻は形成されない。(2)完全吸着及び部分吸着P2VP-シリカナノコンポジットに対する小角X線散乱パターンは,シリカのラテックス間再分配により説明することが可能である。

シソーラス用語： *吸着 ,  ナノ粒子 ,  *ラテックス ,  *再分布 ,  P2VP ,  コロイド ,  微粒子 ,  単分子層 ,  ナノ複合材料 ,  多層構造 ,  カプセル ,  小角X線散乱 ,  *二酸化ケイ素 ,  コアシェル構造
準シソーラス用語： *シリカ ,  コロイド粒子

分類 (2件)： その他の構造決定法  (BK01070L) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 吸着 ,  シリカナノ粒子 ,  予期 ,  ラテックス ,  再分配