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J-GLOBAL ID：201002286846924896   整理番号：10A0268067

超平坦化加工した4H-SiC(0001)表面上のグラフェン

著者 (8件)： 服部梓 (大阪大 大学院) ,  岡本武志 (大阪大 大学院) ,  定国峻 (大阪大 大学院) ,  村田順二 (大阪大 大学院) ,  有馬健太 (大阪大 大学院) ,  佐野泰久 (大阪大 大学院) ,  遠藤勝義 (大阪大 大学院) ,  山内和人 (大阪大 大学院)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 65  号： 1 第4分冊  ページ： 957  発行年： 2010年03月01日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *平坦性 ,  炭化ケイ素 ,  *グラファイト ,  *吸着 ,  *熱処理 ,  ウエハ【IC】 ,  微細加工 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 超平坦化加工

分類 (1件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 平坦化加工 ,  4H-SiC ,  グラフェン