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J-GLOBAL ID:201002287182928526   整理番号:10A0587290

共形,官能性,および応答性の高分子膜の化学蒸着

Chemical Vapor Deposition of Conformal, Functional, and Responsive Polymer Films
著者 (13件):
資料名:
巻: 22  号: 18  ページ: 1993-2027  発行年: 2010年05月11日 
JST資料番号: W0001A  ISSN: 0935-9648  CODEN: ADVMEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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単量体の化学蒸着(CVD)による機能性高分子膜の作製について総説した。A.序論 A1.CVDによる高分子合成の動機 A2.CVDの化学およびプロセスの概観(連鎖成長CVD高分子;逐次成長CVD高分子) B.CVD高分子のキャラクタリゼーション B1.共形 B2.官能性(表面エネルギー制御;蒸着後官能化のための置換基;電気伝導性) B3.応答性(中性ヒドロゲル;pH応答層;温度応答層;圧電およびエレクトロクロミズム挙動) B4.CVD重合における界面および膜成長の制御(接着性増強;膜厚範囲;実時間制御;組成勾配) C.テーマの統一化 C1.CVDの機構的特性(ラジカル連鎖成長機構;縮合逐次成長重合) C2.CVDの基礎(吸着,反応,および拡散律速領域;単量体の吸着および反応性;ステップ被覆および付着係数;反応器設計およびスケールアップ D.応用例 D1.微細加工(エアギャップ;微小機械および電気システム(MEMS),パターン形成) D2.生物医学 D3.膜(膜のCVD高分子による表面修飾の動機;内部細孔表面の修飾のための共形CVD高分子;複合膜のための非共形CVD高分子) D4.ミクロおよびナノ粒子ならびに組成物 E.結論。
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分類 (4件):
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有機化合物の薄膜  ,  固-気界面一般  ,  高分子固体のその他の性質  ,  固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
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