パターンドメディアマスタリングに対する電子ビームレコーダ

KITAHARA Hiroaki; UNO Yuhei; SUZUKI Hiroaki; KOBAYASHI Takashi; TANAKA Hiroshi; KOJIMA Yoshiaki; KOBAYASHI Masaki; KATSUMURA Masahiro; WADA Yasumitsu; IIDA Tetsuya

文献

J-GLOBAL ID：201002287413003571 整理番号：10A0700701

パターンドメディアマスタリングに対する電子ビームレコーダ

Electron Beam Recorder for Patterned Media Mastering

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資料名：
巻： 49 号： 6,Issue 2 ページ： 06GE02.1-06GE02.9 発行年： 2010年06月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

パターンドメディアは面積記録密度1Tbit/in.²以上の次世代ハードディスクドライブ(HDD)を実現するために有望な技術である。離散的トラックメディア(DTM)とビットパターンドメディア(BPM)の二つの型のパターンドメディアを提案した。DTMとBPMともに極小の特徴サイズと非常に厳しい精度要件が要求される。マスタリングプロセスはパターンドメディア製造における重要な技術であり電子ビームマスタリングはこのようなプロセスを実行する上で唯一の方法である。パターンドメディアマスタリングに対する新しい電子ビームレコーダ(EBR)を開発した。本論文では,この技術とEBRの記録性能について紹介した。EBRは,100kV EBコラム,高精度r-θステージ系,ステージエラー補正系,パターンドメディアに対するEBRフォーマッタの四つの技術的特徴からなる。実験的にはEBRは以下の記録性能を示した。EBRは,1Tbit/in.²面積密度を有するDTMに要求されるのに十分な記録確度を到達した。EBRにより,1.5Tbit/in.²面積密度以上の35nmトラックピッチを有するDTMパターンの高密度記録が行えた。1.8in.DTMマスターに記録する事により高処理能力と良好な記録安定性がEBRで示せた。この実験でEBRによって1nm以下の線幅均一性と全域記録に対して約50hという短い露光時間が到達できた。パターンドメディア製造に対するEBRの現実性を証明した。(翻訳著者抄録)

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電子・磁気・光学記録

引用文献 (14件)：

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