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J-GLOBAL ID：201002288433810275   整理番号：10A0684904

ポリマーから誘導したオキシ炭化ケイソ/ハフニア系セラミックナノ複合材 II T>>1000°Cでの分解に対する安定性とミクロ構造の変化

Polymer-Derived Silicon Oxycarbide/Hafnia Ceramic Nanocomposites. Part II: Stability Toward Decomposition and Microstructure Evolution at T≫1000°C

著者 (4件)： IONESCU Emanuel (Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU) ,  PAPENDORF Benjamin (Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU) ,  KLEEBE Hans-Joachim (Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU) ,  RIEDEL Ralf (Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 93  号： 6  ページ： 1783-1789  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 別に報告した方法で,ポリメチルシルセスキオキサンのイソプロパノール溶液と,いろいろな濃度のハフニウムテトラ(n-ブトキシド)のイソプロパノール溶液とを反応させ,生成した粉末を,加圧成形後,1100°Cで熱分解して,SiOC中にハフニア-ナノ粒子が分散した物質を得た。これらを,さらに,1300~1600°CでAr気流中で加熱し,製品を,XRD,SEM,TEM,ラマン分光,などで分析した。オキシ炭化ケイ素にハフニアナノ粒子を導入すると炭素熱反応に対する安定性が増加した。これはハフノン(HfSiO₄)が形成された結果である。ハフノンのin-situ形成反応は,シリカと炭素の反応と競合し,1400°C以上で,SiOCの分解を抑制すると考えられる。

シソーラス用語： *ケイ素化合物 ,  *酸化物 ,  *炭化物 ,  *酸化ハフニウム ,  *ナノ複合材料 ,  ポリシルセスキオキサン ,  熱分解 ,  安定性 ,  ケイ酸塩 ,  ハフニウム化合物
準シソーラス用語： *オキシ炭化ケイ素 ,  ケイ酸ハフニウム ,  ポリメチルシルセスキオキサン ,  *構造変化

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

物質索引 (1件)： ハフニウムテトラブトキシド

タイトルに関連する用語 (9件)： ポリマー ,  誘導 ,  炭化ケイソ ,  ハフニア ,  セラミック ,  ナノ複合材 ,  分解 ,  安定性 ,  ミクロ構造