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J-GLOBAL ID：201002288595514467   整理番号：10A1152130

AFMナノプラウ平面YBCOマイクロブリッジ:臨界電流と磁場効果

AFM Nano-Plough Planar YBCO Micro-Bridges: Critical Currents and Magnetic Field Effects

著者 (3件)： ELKASEH A. A. O. (Stellenbosch Univ., Stellenbosch, ZAF) ,  PEROLD W. J. (Stellenbosch Univ., Stellenbosch, ZAF) ,  SRINIVASU V. V. (CSIR, Pretoria, ZAF)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 10  号： 10  ページ： 6510-6513  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 逆円柱マグネトロン(ICM)スパッタリング法を用いて,酸化マグネシウム基板上にYBa₂Cu₃O_7-x(YBCO)を作成し,ついで,標準的なフォトリソグラフィとドライエッチング技術を用いて,薄膜に8~10μm幅のストリップ模様を描いた。さらに,原子間力顕微鏡(AFM)ナノリソグラフィ技術を使って,1.9~4.1μm幅のミクロブリッジを作成した。こうして得られたc軸配向YBCO薄膜のプラウミクロくびれを流れる臨界電流を,温度,ブリッジ幅,および,YBCOのab面とブリッジ表面に垂直に加えた磁束密度の関数として調べた。その結果,臨界電流の温度依存性データは,くびれ型Josephson接合に特徴的な線形挙動を示すことが分かった。また,磁束密度に対する臨界電流の変化曲線は変調構造を示し臨界電流は84%まで抑えられ,くびれ幅の増加とともに,臨界電流が増加することも見いだした。

シソーラス用語： 原子間力顕微鏡 ,  *YBCO薄膜 ,  臨界電流 ,  磁場効果 ,  微細構造 ,  プラウ ,  マグネトロンスパッタリング ,  *ブリッジ回路 ,  フォトリソグラフィー ,  ドライエッチング ,  帯板 ,  Josephson接合
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  ミクロ構造 ,  *マイクロブリッジ ,  ストリップ

分類 (2件)： Josephson接合・素子  (BM04043E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： AFM ,  プラウ ,  YBCO ,  マイクロブリッジ ,  臨界電流 ,  磁場効果