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J-GLOBAL ID：201002289026928365   整理番号：10A1049098

低温低圧プラズマによるクロマトグラフィー用吸着剤の表面修飾

Surface modification of chromatography adsorbents by low temperature low pressure plasma

著者 (6件)： ARPANAEI A. (Center for Microbial Biotechnology, Building 223, Inst. for Systems Biology, Technical Univ. of Denmark, DK-2800 ...) ,  WINTHER-JENSEN B. (The Danish Polymer Centre, Riso National Lab., DK-4000, DNK) ,  THEODOSIOU E. (School of Chemical Engineering, Coll. of Engineering and Physical Sciences, The Univ. of Birmingham, Edgbaston ...) ,  KINGSHOTT P. (The Danish Polymer Centre, Riso National Lab., DK-4000, DNK) ,  HOBLEY T.j. (Center for Microbial Biotechnology, Building 223, Inst. for Systems Biology, Technical Univ. of Denmark, DK-2800 ...) ,  THOMAS O.r.t. (School of Chemical Engineering, Coll. of Engineering and Physical Sciences, The Univ. of Birmingham, Edgbaston ...)
資料名： Journal of Chromatography A  (Journal of Chromatography A)
巻： 1217  号： 44  ページ： 6905-6916  発行年： 2010年10月29日 
JST資料番号： C0278B  ISSN： 0021-9673  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低温グロー放電プラズマを用いてクロマトグラフィー用非吸着性外装を持つ2層吸着剤の調製方法を示す。市販の強陰イオン交換拡張床クロマトグラフィーマトリックス,Q HyperZを2つの一般的な方法の1つでプラズマ処理した。この目的のために設計した回転反応器を利用し,プラズマをQ HyperZの外部表面,又はその近接部での陰イオン交換リガンドを除去し,極性酸素含有官能基によって置き換える,又は適切なモノマー(酢酸ビニル,ビニルピロリドン,サフロール)とキャリアガスとしてArを用いる薄いポリマー被覆(プラズマ重合被覆)の下に同じ表面暴露リガンドを埋める。種々のプラズマ処理の前後のQ HyperZのX線光電子分光分析から,すべての場合で加えられるQ HyperZの外装の元素組成への相当な変化が確認される。空気プラズマエッチング暴露後に観察されるC,N,O,Y,及びZr中の原子百分率の変化は,ペンダントQ(トリメチルアンモニウム)構造基の除去,Y安定化Zrシェルを明確に示す暴露の増加,及びヒドロキシル,及びカルボニル官能基の導入に完全に一致した。(3種のモノマーで試験した)プラズマ重合処理の後,Cの原子百分率の増加とN,Y,及びZrの原子百分率の減少がQ HyperZの外装での薄いポリマー被覆の形成の証拠を与える。吸着剤のサイズ,表面の形態の変化もなく,走査型電子顕微鏡,光学マイクロ写真,及び粒子サイズ分布の測定から識別されるプラズマ誘導損傷の証拠もない。プラズマ曝露前後のバルク塩素交換能力の損失によって,水和Q HyperZ吸着剤粒子内の有効改質深さが負荷された条件に依存して0.2-1.2μmとして計算できた。プラスマによる誘発変化の深さは電力の低下や軽減されたプラスマ浸透,即ち,より浅い改質で生じるバッチサイズの増大のような処理されたバッチの電力投入量や大きさによって大きく影響を受けた。各種のプラスマ処理によってQ HyperZに付与された「表面対コア」改質の選択性を,プラスミドDNA,超音波処理ウシ胸腺DNAやウシ血清アルブミンのような適切なプローブを用いて静的および動的結合の研究で評価した。5gスケールのプラズマに曝露した吸着剤についての静的な結合研究では,最高の「表面対コア」改質の選択性は220Vで3hの大気プラズマエッチングを付与したものであった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 低温 ,  低圧 ,  *グロー放電 ,  *プラズマ ,  *クロマトグラフ用カラム ,  *吸着剤 ,  *表面改質 ,  陰イオン交換樹脂 ,  基 ,  *プラズマ重合 ,  *高分子薄膜 ,  カルボニル基 ,  キャラクタリゼーション ,  プラスミド ,  DNA【核酸】 ,  ウシ ,  胸腺 ,  血清アルブミン ,  プローブ ,  選択性 ,  プラズマ処理 ,  表面構造 ,  酸素複素環化合物 ,  アリル化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  脂肪酸 ,  脂肪族アルコール ,  エノールエステル ,  ビニル化合物 ,  不飽和アルコール ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  極性基 ,  分子プローブ ,  *放電プラズマ

分類 (2件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  生物物理的研究法  (EA03020V)

物質索引 (3件)： サフロール ,  ビニルピロリドン ,  酢酸ビニル

タイトルに関連する用語 (5件)： 低温低圧 ,  プラズマ ,  クロマトグラフィー ,  吸着剤 ,  表面修飾