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J-GLOBAL ID:201002289795966679   整理番号:10A0500547

0.13μm Si RFCMOS技術の低電力Vバンド注入同期周波数分周器

A Low Power V-Band Injection-Locked Frequency Divider in 0.13-μm Si RFCMOS Technology
著者 (2件):
資料名:
巻: E93-C  号:ページ: 614-618  発行年: 2010年05月01日 
JST資料番号: L1370A  ISSN: 0916-8524  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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本稿では,低DC電力消費でVバンドで動作する2分割注入同期周波数分周器(ILFD)を,商用0.13μm Si RFCMOS技術で開発した。バイアス電流パスを注入信号パスから分離し,わずか0.31mWのDC電力消費に至る,0.5Vの小さい供給電圧を可能にした。筆者の最良の知識では,これは記述時点でミリ波ILFDに対して報告された最も低い電力消費であった。全てのインダクタと接続ラインを,回路性能の正確な予測用のEM(電磁)シミュレータに基づき設計した。0~1.2V範囲のバラクタ同調電圧により,自走発振周波数が27.43から28.06GHzへ変化した。0dBm入力電力で,周波数分周器が,外部同調メカニズム無しで53から58.8GHzへ5.8GHzの同調範囲を示した。製造した回路サイズは,RFとDC供給パッドを含んで0.72mm×0.62mmであった。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
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周波数変換回路  ,  半導体集積回路 
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