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J-GLOBAL ID：201002290040934872   整理番号：10A0995433

マグネトロンスパッタリングによって成膜した銀薄膜の特性に関する酸素含有量と蒸着温度の効果

Effect of oxygen content and deposition temperature on the characteristics of thin silver films deposited by magnetron sputtering

著者 (5件)： KIM W.m. (Electronic Materials Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., 39-1, Hawolgok-dong, Sungbuk-gu, Seoul 136-791, KOR) ,  KU D.y. (Electronic Materials Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., 39-1, Hawolgok-dong, Sungbuk-gu, Seoul 136-791, KOR) ,  KU D.y. (EXAX Co. Ltd., 310, Gongdan-dong, Gumi-city, Kyungsangbuk-do 730-030, KOR) ,  LEE K.s. (Electronic Materials Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., 39-1, Hawolgok-dong, Sungbuk-gu, Seoul 136-791, KOR) ,  CHEONG B. (Electronic Materials Center, Korea Inst. of Sci. and Technol., 39-1, Hawolgok-dong, Sungbuk-gu, Seoul 136-791, KOR)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 257  号： 4  ページ： 1331-1336  発行年： 2010年12月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銀薄膜は,シングルエンド式インラインスパッタシステムにおいてスパッタガス中の種々O₂含有量,種々の基板温度において直流マグネットロンスパッタによって調製した,そしてそれらの電気的,光学的,構造的,形態的な特性は組成特性と共に調査した。室温成膜において,Ag薄膜の電気的,光学的特性はスパッタガスへのO₂の添加によって悪化した。O₂を添加したスパッタガス中でのAg薄膜の成膜は,基板表面に平行な(200)面を持ったAg結晶形成を促進した。100°C以上で成膜したAg薄膜の電気抵抗と光反射は,酸素を含んだスパッタリングプラズマによる影響を受けない。X線光電子分光分析が,O₂添加したスパッタガス中において100°C以上で成膜したAg薄膜は,薄膜中に余剰酸素を含まなかった,そしてこれらの薄膜の酸化状態は,純粋なArガス中で成膜したそれとほとんど同じであった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *銀 ,  金属薄膜 ,  蒸着膜 ,  *基板温度 ,  酸素 ,  添加物効果 ,  *電気抵抗 ,  *光反射 ,  X線光電子スペクトル

分類 (3件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属結晶の電子伝導  (BM03033M) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： マグネトロンスパッタリング ,  成膜 ,  銀薄膜 ,  酸素含有量 ,  蒸着温度