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J-GLOBAL ID：201002290311631650   整理番号：10A0472213

低温溶液法により作製したち密で垂直に整列したZnOナノロッド薄膜

Compact and vertically-aligned ZnO nanorod thin films by the low-temperature solution method

著者 (6件)： TING Chu-chi (Graduate Inst. of Opto-Mechatronics Engineering, National Chung Cheng Univ., 168 Univ. Rd., Min-Hsiung, Chia-Yi, TWN) ,  LI Chang-hung (Graduate Inst. of Opto-Mechatronics Engineering, National Chung Cheng Univ., 168 Univ. Rd., Min-Hsiung, Chia-Yi, TWN) ,  KUO Chih-you (Graduate Inst. of Opto-Mechatronics Engineering, National Chung Cheng Univ., 168 Univ. Rd., Min-Hsiung, Chia-Yi, TWN) ,  HSU Chia-chen (Graduate Inst. of Opto-Mechatronics Engineering, National Chung Cheng Univ., 168 Univ. Rd., Min-Hsiung, Chia-Yi, TWN) ,  WANG Hsiang-chen (Graduate Inst. of Opto-Mechatronics Engineering, National Chung Cheng Univ., 168 Univ. Rd., Min-Hsiung, Chia-Yi, TWN) ,  YANG Ming-hsun (Graduate Inst. of Opto-Mechatronics Engineering, National Chung Cheng Univ., 168 Univ. Rd., Min-Hsiung, Chia-Yi, TWN)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 518  号： 15  ページ： 4156-4162  発行年： 2010年05月31日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： よくc軸配向したZnOナノロッド薄膜を簡単な溶液成長法により石英ガラス基板上に得た。厚さ~800nmで六方晶の平均粒径が~200nmのち密で垂直に整列したZnOナノロッド薄膜は平均可視光透過率85%,屈折率1.74,充填密度0.84,及びエネルギーバンドギャップ3.31eVを示した。この薄膜は最適パラメータ;0.05M,75°C,6時間,多段,及び平均粒径~20nmのZnOシード層の下で作製したものである。光ルミネセンススペクトルは,最もち密なZnOナノロッド薄膜には多数の酸素空格子点や格子間酸素原子が存在することを示した。ここで実証したように,溶液成長法は,高品質でち密なZnOナノロッド薄膜の作製に利用でき,光学品質の薄膜作製のための容易に制御された低温,低コスト,大規模プロセスである。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  半導体薄膜 ,  *ナノロッド ,  優先配向 ,  *溶液成長 ,  *薄膜成長 ,  石英ガラス ,  六方晶系 ,  透過率 ,  屈折率 ,  *光学定数 ,  *光学ギャップ ,  光ルミネセンス ,  点欠陥 ,  大量生産
準シソーラス用語： ガラス基板

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低温 ,  溶液 ,  作製 ,  ち密 ,  整列 ,  ZnOナノロッド ,  薄膜