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J-GLOBAL ID：201002290425048113   整理番号：10A0695087

ホログラフィー法によるアントラセン重合体の蛍光性パターン発生

Fluorescent Pattern Generation of Anthracene Polymers by Holographic Technique

著者 (3件)： KIM Y. (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  KIM J. (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  KIM E. (Yonsei Univ., Seoul, KOR)
資料名： Molecular Crystals and Liquid Crystals  (Molecular Crystals and Liquid Crystals)
巻： 520  ページ： 499-506  発行年： 2010年04月 
JST資料番号： B0877A  ISSN： 1542-1406  CODEN： MCLCE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エチレングリコールフェニルエーテルアクリラート,トリアジンジメタクリラート,ポリスルホン(光開始剤),ポリアントラセン(PMAn=発蛍光団)の混合物溶液をガラス基板上にキャストすることで共重合体薄膜(I)を得た。ホログラフィーパターン形成装置によりIに回折格子を描いた。I,回折格子の構造と性質をGPC,光ルミネセンス(PL)測定,光学顕微鏡法により調べた。PMAnの分子量が増すにつれ,PL発光ピークは赤方偏移した。パターン形成後には格子領域の蛍光強度が増した。これを光共重合による重合体マトリックス内のミクロ相分離により説明した。PMAnの分子量とパターン形成前の蛍光消光の関係などを論じた。

シソーラス用語： *ホログラフィー ,  *パターン形成 ,  ポリスルホン ,  共重合体 ,  *高分子薄膜 ,  *ホログラフィック格子 ,  光応答性高分子 ,  赤方偏移 ,  ミクロ相分離 ,  光ルミネセンス ,  光学顕微鏡法 ,  光重合 ,  共重合 ,  薄膜成長 ,  *ポリアリーレン ,  *感光性高分子 ,  蛍光体 ,  放射強度
準シソーラス用語： ポリメチルアントラセン ,  *ホログラフィー回折格子 ,  蛍光消光 ,  分子量依存性

分類 (1件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (3件)： 1-メチルアントラセン ,  アクリル酸2-フェノキシエチル ,  N,N-ジフェニル-4,6-ビス(メタクリロイルチオ)-s-トリアジン-2-アミン

タイトルに関連する用語 (4件)： ホログラフィー ,  アントラセン ,  重合体 ,  蛍光性