文献

J-GLOBAL ID：201002290558807319   整理番号：10A0731755

OPCモデル較正時のテストパターン選択用の画像パラメータ利用の可能性

The feasibility of using image parameters for test pattern selection during OPC model calibration

著者 (2件)： ABDO Amr (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center (SRDC), NY) ,  VISWANATHAN Ramya (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center (SRDC), NY)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7640  号： Pt.1  ページ： 76401E.1-76401E.11  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 先端的半導体集積回路の製造にはモデルベース光近接効果補正(OPC)が不可欠である。正確なOPCモデルの構築にはテストパターンの測定データを用いたモデル較正が極めて重要である。テストパターン選択に画像パラメータ(最大強度,最小強度,傾斜,曲率)を利用する可能性を検討した。まず,テストパターン選択の唯一の基準に画像パラメータを用いる可能性を調べた。次に,段階的データ削減がOPCモデル性能に及ぼす影響を調べた。さらに,妥協的手法を検討した。三種類の手法の結果を示し,比較して論じた。

シソーラス用語： *補正 ,  テストパターン ,  パラメータ ,  画像 ,  *キャリブレーション ,  *モデル ,  *データベース ,  データ収集
準シソーラス用語： *光近接効果補正 ,  画像パラメータ ,  *モデルベース ,  *モデル較正

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： OPC ,  モデル較正 ,  テストパターン ,  画像パラメータ ,  可能性