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J-GLOBAL ID:201002290826353296   整理番号:10A0420667

ナフチル環の8位にホウ素原子を有するナフチル置換ジホスフェンの合成検討

著者 (3件):
資料名:
巻: 90th  号:ページ: 1449  発行年: 2010年03月12日 
JST資料番号: S0493A  ISSN: 0285-7626  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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近年,パイ電子共役拡張ジホスフェン類が注目を集めている。効果的な共役拡張に必須である共平面性の実現のため,ホウ素原子のルイス酸性に着目し,8位にホウ素原子を有するナフチル基をジホスフェン1の置換基として設計した。ジホスフェン1の前駆体と考えられるジクロロホスフィン2は,対応するリチオ体3に三塩化リンを反応させることにより高収率で合成した。さらに2の還元によるジホスフェン1の合成を検討した。(著者抄録)
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分類 (1件):
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有機りん化合物 
物質索引 (2件):
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