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J-GLOBAL ID：201002290913398336   整理番号：10A0861699

W(111)表面上のHClとH₂O分子の吸着と反応の密度汎関数研究

Density-functional studies of the adsorption and reaction of HCl and H₂O molecules over the W(111) surface

著者 (2件)： CHEN Hsin-tsung (National Center for High-performance Computing, 28 Nan-Ke 3rd Road, Hsinshi, Tainan 74147, Taiwan) ,  CHEN Hui-lung (Dep. of Chemistry and Inst. of Applied Chemistry, Chinese Culture Univ., Taipei 111, Taiwan)
資料名： Chemical Physics  (Chemical Physics)
巻： 374  号： 1-3  ページ： 22-29  発行年： 2010年08月23日 
JST資料番号： D0167B  ISSN： 0301-0104  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： タングステン ,  表面 ,  *塩化水素 ,  *水 ,  分子 ,  *吸着 ,  *反応 ,  密度汎関数法 ,  障壁 ,  再結合 ,  吸熱反応 ,  塩素 ,  酸素 ,  水素 ,  発熱反応 ,  触媒活性
準シソーラス用語： エネルギー障壁

分類 (2件)： 吸着の電子論  (CB12042Y) ,  触媒反応一般  (CB06080F)

タイトルに関連する用語 (6件)： HCl ,  H2O ,  分子 ,  吸着 ,  密度汎関数 ,  研究