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J-GLOBAL ID：201002292181271225   整理番号：10A0221279

浮揚溶解装置の磁気遮蔽

Magnetic Shielding of Levitation Melting Devices

著者 (6件)： SERGEANT Peter (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  SERGEANT Peter (Univ. Coll. Ghent, Ghent, BEL) ,  HECTORS Dietrich (OCAS N.V., Zelzate, BEL) ,  HECTORS Dietrich (KU Leuven, Heverlee, BEL) ,  DUPRE Luc (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  VAN REUSEL Koen (KU Leuven, Heverlee, BEL)
資料名： IEEE Transactions on Magnetics  (IEEE Transactions on Magnetics)
巻： 46  号： 2  ページ： 686-689  発行年： 2010年02月 
JST資料番号： A0339B  ISSN： 0018-9464  CODEN： IEMGAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 浮揚溶解誘導加熱装置の磁気遮蔽は,漂遊場を減少させるだけでなく,ワークピースの位置にも影響を及ぼす。銅遮蔽やソフト磁気遮蔽によって起きる磁場の変化およびワークピースの定常位置偏差がデバイスに与える影響を検討した。軸対象導電遮蔽における誘導電流による遮蔽は場の減少に有効であるが,ワークピース位置の減少をもたらす。浮揚溶解の適用においては,十分な高半径や少なくともインダクタの高さを持った軸対象銅場によって遮蔽すべきである。ソフト磁気遮蔽を使った磁束分離による遮蔽は,場の減少が減りワークピース位置の増加をもたらす。ソフト磁気遮蔽が軸非対象の場合は,ワークピース位置の左右方向移動をもたらす。

シソーラス用語： *レビテーション溶融 ,  *磁気遮蔽 ,  *誘導加熱 ,  誘導炉 ,  渦電流 ,  電流
準シソーラス用語： 浮揚溶解 ,  誘導電流

分類 (1件)： 熱処理設備  (WC03050A)

タイトルに関連する用語 (3件)： 浮揚 ,  溶解装置 ,  磁気遮蔽