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J-GLOBAL ID：201002293216916824   整理番号：10A0464926

窒素プラズマ誘起固液界面反応によるHfTiSiON膜作製:ナノ粒子均一性の影響

著者 (3件)： 北嶋武 (防衛大) ,  鹿毛亮佑 (防衛大) ,  中野俊樹 (防衛大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.19A-P11-25  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ハフニウム化合物 ,  チタン化合物 ,  ケイ素化合物 ,  酸化物 ,  窒化物 ,  誘電体薄膜 ,  電子ビーム蒸着 ,  窒素 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線光電子スペクトル ,  *ナノ粒子 ,  均一性 ,  固液界面 ,  不均一系反応 ,  *薄膜成長
準シソーラス用語： プラズマ照射 ,  高k誘電体 ,  *界面反応

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 窒素プラズマ ,  誘起 ,  固液界面反応 ,  作製 ,  ナノ粒子 ,  均一性