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J-GLOBAL ID：201002293235604833   整理番号：10A1157907

放電プラズマ焼結による透光性オキシアパタイトセラミックスの開発

Development of Translucent Oxyapatite Ceramics by Spark Plasma Sintering

著者 (6件)： SHEN Yiqiang (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP) ,  XU Jinling (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP) ,  TOK Alfred (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP) ,  TANG Dingyuan (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP) ,  KHOR Khiam Aik (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP) ,  DONG Zhili (Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 93  号： 10  ページ： 3060-3063  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固相反応で合成した純粋なオキシアパタイトSr₂Y₈(SiO₄)₆O₂粉末を放電プラズマ焼結(SPS)し,微細構造と光学的性質を調べた。SPSは1400°Cと1500°Cで3分,23MPaで行った。1400°Cと1500°Cの焼結密度は98.1%と99.3%,気孔率は1.9%と0.7%,平均粒径は3.2μmと3.8μmで,SPSによる短時間焼結で粒成長が抑制された。1500°C焼結体の赤外域の全前方透過率は約52%に達したが,インライン透過率は3.2%(800nm)と比較的低かった。前者は残留気孔に影響され,後者は複屈折効果と残留気孔に影響される。

シソーラス用語： *セラミック ,  *透明材料 ,  *放電焼結 ,  プラズマ加工 ,  *ストロンチウム化合物 ,  *イットリウム化合物 ,  *ケイ酸塩 ,  *酸化物 ,  微細構造 ,  光透過 ,  透過率 ,  赤外線 ,  密度 ,  空隙率 ,  粒度分布 ,  複屈折 ,  熱収縮 ,  係数 ,  *放電プラズマ焼結
準シソーラス用語： 散乱係数

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 放電プラズマ焼結 ,  透光性 ,  オキシアパタイト ,  セラミックス ,  開発