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J-GLOBAL ID：201002293418819553   整理番号：10A0083829

層流を伴う一定界面のセルを使用するイソオクタノールの存在での2-エチルヘキシルホスホン酸モノ-(2-エチルヘキシル)エステルによるイッテルビウム(III)の抽出速度

Extraction kinetics of ytterbium(III) by 2-ethylhexylphosphonic acid mono-(2-ethylhexyl) ester in the presence of isooctanol using a constant interfacial cell with laminar flow

著者 (3件)： WANG Xianglan (Dep. of Chemistry and Environmental Engineering, Wuhan Bioengineering Inst., Wuhan 430415, CHN) ,  MENG Shulan (State Key Lab of Rare Earth Resource Utilization, Changchun Inst. of Applied Chemistry, CAS, Changchun 130022, CHN) ,  LI Deqian (State Key Lab of Rare Earth Resource Utilization, Changchun Inst. of Applied Chemistry, CAS, Changchun 130022, CHN)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 71  号： 1  ページ： 50-55  発行年： 2010年01月29日 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イソオクタノールの存在での2-エチルヘキシルホスホン酸モノ-(2-エチルヘキシル)エステル(HEHEHP)によるイッテルビウム(III)の抽出速度について,層流を伴う一定界面のセルを使用して調べた。イソオクタノールの存在でのイッテルビウム(III)とHEHEHPとの錯体生成反応の化学量論について評価した。抽出速度データを疑1次定数の項で分析した。速度測定の温度依存性から,EaとΔH,およびΔSの値を計算して,抽出プロセスが界面反応による拡散律速の速度プロセスであるとわかった。界面反応モデルから得られた予測により律速段階を推定して,流束方程式の近似解を通して,拡散パラメータと拡散膜の厚さを計算した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *イッテルビウム ,  精錬 ,  精製 ,  *溶媒抽出 ,  抽剤 ,  配位子 ,  *ホスホン酸エステル ,  イッテルビウム錯体 ,  錯体生成 ,  反応速度 ,  反応拡散系 ,  律速 ,  温度依存性 ,  溶媒効果

分類 (2件)： 精錬  (WD02040L) ,  抽出  (XD02030B)

物質索引 (2件)： イソオクタノール ,  りん酸2-エチルヘキシル

タイトルに関連する用語 (9件)： 層流 ,  界面 ,  セル ,  イソオクタノール ,  ヘキシルホスホン酸 ,  ヘキシル ,  エステル ,  イッテルビウム ,  抽出速度