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J-GLOBAL ID：201002293541203486   整理番号：10A0523731

エネルギー範囲140~930eVの結晶性HfO₂の光学定数

Optical constants of crystalline HfO² for energy range 140-930 eV

著者 (5件)： FILATOVA Elena ,  SOKOLOV Andrey ,  ANDRE Jean-michel ,  SCHAEFERS Franz ,  BRAUN Walter
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 49  号： 14  ページ： 2539  発行年： 2010年05月10日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 143eVから927eVまでのスペクトル領域のシンクロトロン放射を用いて測定されたHfN_4,5-,HfN_2,3-およびOKの吸収端を含む反射スペクトルからHfO₂薄膜の単結晶系相の光学定数を計算した。その計算は,Kramers-Kronig関係を用いて行なわれた。θ/θ_c>3.7のエネルギーに対するHfO₂(およびおそらく他の重元素の)実験の反射スペクトルの推定に,R(E)~E^-4の関係を使用できることを示すことができた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *光学定数 ,  *酸化ハフニウム ,  シンクロトロン放射 ,  *薄膜 ,  反射スペクトル ,  Kramers-Kronig関係式 ,  単結晶 ,  反射率
準シソーラス用語： *酸化物薄膜

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (4件)： エネルギー ,  結晶性 ,  HfO2 ,  光学定数