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J-GLOBAL ID：201002293668122779   整理番号：10A0107725

パルスDCバランスマグネトロンスパッタリング系によって合成した異なる微細構造を有するCrAlN膜の耐酸化性

Oxidation Resistance of CrAlN Films with Different Microstructures Prepared by Pulsed DC Balanced Magnetron Sputtering System

著者 (5件)： KHAMSEH S. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama) ,  NOSE M. (Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama) ,  KAWABATA T. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama) ,  MATSUDA K. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama) ,  IKENO S. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama)
資料名： Materials Transactions  (Materials Transactions)
巻： 51  号： 2  ページ： 271-276 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： G0668A  ISSN： 1345-9678  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 色々なN₂/Ar比およびパルス幅の下にパルスDCバランス反応性スパッタリング系を使ってCrAlN膜を作製した。次の異なる微細構造の2つのCrAlN膜の耐酸化性を調べた。1)fcc-CrN構造で,低内部応力および中程度の硬度,そして,2)hcp-AlNとhcp-Cr₂N相の混合構造で,高内部応力および41GPaの超高硬度のものである。単一fcc-CrN構造を有するCrAlN膜(1)は,最高900°Cの優れた耐酸化性を示した。この膜の塑性硬度は,900°Cで最大38.5GPaまで増加した。対照的に,hcp-AlNとhcp-Cr₂N相の混合構造のCrAlN膜(2)は,最高800°Cまでは安定であった。この膜の塑性硬度は,アニーリングと共に次第に低下した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *窒化物 ,  *クロム化合物 ,  *アルミニウム化合物 ,  *セラミック膜 ,  *耐酸化性 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *反応性スパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  *蒸着膜 ,  パルス幅 ,  *微細構造 ,  内部応力 ,  硬度 ,  結晶構造 ,  混合構造 ,  六方晶系 ,  焼なまし ,  FCC構造
準シソーラス用語： アニーリング

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

引用文献 (31件)：

• BARSHILIA, H. C. Surf. Coat. Technol. 2006, 201, 2193
• SUGISHIMA, A. Surf. Coat. Technol. 1997, 197, 590
• KIMURA, A. Surf. Coat. Technol. 2003, 169-170, 367
• PALDEY, S. Mat. Sci. Eng. A. 2003, 342, 58
• HORLING, A. J. Vac. Sci. Technol. A. 2002, 20, 1815

タイトルに関連する用語 (6件)： パルス ,  DC ,  バランス ,  マグネトロンスパッタリング ,  微細構造 ,  耐酸化性