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J-GLOBAL ID：201002293933791157   整理番号：10A1106630

イオンビーム支援蒸着により作製したZnS/Ag/ZnS多層膜の構造特性,光学的性質,電気的性質に及ぼすAg膜厚の影響

Influence of Ag thickness on structural, optical, and electrical properties of ZnS/Ag/ZnS multilayers prepared by ion beam assisted deposition

著者 (7件)： LENG Jian (School of Optoelectronics, Beijing Inst. of Technol., Beijing 100081, CHN) ,  YU Zhinong (School of Optoelectronics, Beijing Inst. of Technol., Beijing 100081, CHN) ,  XUE Wei (School of Optoelectronics, Beijing Inst. of Technol., Beijing 100081, CHN) ,  ZHANG Ting (School of Optoelectronics, Beijing Inst. of Technol., Beijing 100081, CHN) ,  JIANG Yurong (School of Optoelectronics, Beijing Inst. of Technol., Beijing 100081, CHN) ,  ZHANG Jie (School of Optoelectronics, Beijing Inst. of Technol., Beijing 100081, CHN) ,  ZHANG Dongpu (School of Optoelectronics, Beijing Inst. of Technol., Beijing 100081, CHN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 108  号： 7  ページ： 073109  発行年： 2010年10月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： イオンビーム支援蒸着によりk9ガラス上に作製した硫化亜鉛(ZnS)/Ag/ZnS(ZAZ)多層膜の構造特性,光学的性質,電気的性質をAg層厚の関数として調べた。ZAZ多層膜の特性はZnS層間の最適Ag厚の挿入まで有意に改善した。Agイオンビーム照射により,明白なAg島状構造が約4nmの薄いAg厚で連続Ag膜に発展した。Ag膜を2nmに薄くすると,Ag島状構造又は非連続膜により誘起した界面散乱に対する透過率が低下しシート抵抗が高まった。Ag厚が4nmを超えると,ZAZ多層膜はAg層の移動度とキャリア密度の増大に対してシート抵抗を7~80Ω/sqへ大きく低下させ,Ag層の表面と吸収を低下させ,多層膜の干渉現象に対して>90%の高い透過率を示した。厚み14nmのAg膜を有するZAZ多層膜の性能指数は最大6.32×10^-2Ω^-1,平均透過率は>92%,シート抵抗は7.1Ω/sqであった。結果はZAZ膜が条件付き酸化インジウム錫(ITO)単一層よりも優れた光電子特性を有することを示唆した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *イオンビーム蒸着 ,  *硫化亜鉛 ,  半導体材料 ,  *多層膜 ,  島状構造 ,  シート抵抗 ,  銀 ,  半導体薄膜 ,  金属薄膜 ,  依存性
準シソーラス用語： 膜厚依存性

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (9件)： イオンビーム支援蒸着 ,  作製 ,  ZnS ,  Ag ,  多層膜 ,  構造特性 ,  光学的性質 ,  電気的性質 ,  膜厚