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J-GLOBAL ID：201002294250759904   整理番号：10A0902521

ゾル浸漬テンプレート法による多孔質ZnO/SnO₂化合物膜の調製

Preparation of porous ZnO/SnO₂ compound films by sol-dipping template method

著者 (4件)： LIU Z.F. (Tianjin Inst. Urban Construction, Tianjin, CHN) ,  YA J. (Tianjin Inst. Urban Construction, Tianjin, CHN) ,  E L. (Tianjin Inst. Urban Construction, Tianjin, CHN) ,  LIU J.W. (Tianjin Inst. Urban Construction, Tianjin, CHN)
資料名： Materials Science and Technology  (Materials Science and Technology)
巻： 26  号： 7  ページ： 886-888  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： C0304C  ISSN： 0267-0836  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 調製の手間を減らすため多孔質ZnO/SnO₂化合物膜はゾル浸漬テンプレート法によって直接的に調製した。膜の形態と特性も解析した。ゾル浸漬テンプレート法を用いて,多孔質ZnO/SnO₂化合物膜を調製し,最密充填ポリスチレンテンプレート間の間隔をゾルで埋め,焼なましし,ポリスチレンテンプレートを除去した。多孔性形態の形成に,前駆体ゾル濃度は重要な役割を果たした。無機壁の厚さは,ゾル濃度が上昇すると上昇した。浸透率が十分で細孔構造の良い,適切なゾル濃度は約0.4Mだった。ZnOとSnO₂は各々ウルツ鉱とルチル構造であることが,X線回折パターンから分った。

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  ゾル ,  多孔質体 ,  *酸化スズ ,  焼なまし ,  前駆体 ,  浸透率 ,  ウルツ鉱型結晶 ,  ルチル型結晶 ,  細孔構造 ,  型 ,  ポリスチレン ,  浸漬 ,  光電気化学電池
準シソーラス用語： テンプレート【型】

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電池一般  (YB04010O)

タイトルに関連する用語 (6件)： ゾル ,  浸漬 ,  テンプレート ,  多孔質 ,  ZnO ,  調製