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J-GLOBAL ID：201002294275331402   整理番号：10A1146094

ネットワークポリマーへの超音波照射(4)架橋システム材料の分解によるゲル化点以降のネットワーク形成反応の追跡

著者 (3件)： 姫井孝太 (関西大 化学生命工) ,  青田浩幸 (関西大 化学生命工) ,  松本昭 (関西大 化学生命工)
資料名： ネットワークポリマー講演討論会講演要旨集  (Proceedings of the Symposium on Network Polymer)
巻： 60th  ページ： 57-58  発行年： 2010年10月14日 
JST資料番号： F0465B  ISSN： 2189-5112  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *超音波照射 ,  *ネットワーク構造 ,  共重合 ,  *架橋【高分子】 ,  *ゲル ,  重合抑制剤 ,  塊状重合 ,  ゲル化 ,  減少 ,  光散乱 ,  不均一性 ,  経時変化 ,  前駆体 ,  *分子量 ,  ペルオキシド ,  芳香族カルボン酸 ,  皮膚用薬
準シソーラス用語： 網目高分子 ,  ナノゲル ,  重合禁止剤 ,  分子量減少

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (4件)： 安息香酸ビニル ,  テレフタル酸ジアリル ,  過酸化ベンゾイル ,  4-tert-ブチルピロカテコール

タイトルに関連する用語 (7件)： ポリマー ,  超音波照射 ,  架橋 ,  分解 ,  ゲル化点 ,  ネットワーク形成 ,  追跡