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J-GLOBAL ID：201002294407547213   整理番号：10A0340060

加圧下の水中浸漬超疎水性格子の回折パターン

Diffraction Patterns of a Water-Submerged Superhydrophobic Grating under Pressure

著者 (7件)： LEI Lei (Ecole Normal Superieure, Paris, FRA) ,  LI Hao (Ecole Normal Superieure, Paris, FRA) ,  LI Hao (Peking Univ., Beijing, CHN) ,  SHI Jian (Ecole Normal Superieure, Paris, FRA) ,  CHEN Yong (Ecole Normal Superieure, Paris, FRA) ,  CHEN Yong (Peking Univ., Beijing, CHN) ,  CHEN Yong (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 5  ページ： 3666-3669  発行年： 2010年03月02日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ケイ素基板表面にフォトリソグラフィー形成したパターンを鋳型として硬化/ピールオフにより表面に回折格子を形成したPDMSシート(A)を作製した。加圧セル中で水中にAを浸漬し,レーザビームの回折により濡れを観測した。圧力下の回折パターン変化に基づいて水の浸入および空気の圧縮を調べ,加圧/除圧処理による不可逆量をCassie-Baxter濡れからWenzel濡れへの転移により説明した。

シソーラス用語： *回折格子 ,  ポリジメチルシロキサン ,  *濡れ ,  濡れ転移 ,  ウエハ【IC】 ,  フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  鋳型反応 ,  疎水性 ,  圧力効果 ,  レーザビーム ,  固液界面 ,  *光回折
準シソーラス用語： Cassie濡れ ,  PDMS【重合体】 ,  Wenzel濡れ ,  ケイ素基板 ,  テンプレート【鋳型反応】 ,  超疎水性

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  光の散乱,回折,干渉  (BD03030M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 加圧 ,  水中 ,  浸漬 ,  超疎水性 ,  格子 ,  回折パターン