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J-GLOBAL ID：201002294409892244   整理番号：10A0531390

ガス状臭気処理用光触媒湿式スクラビングプロセスの開発

Development of a Photocatalytic Wet Scrubbing Process for Gaseous Odor Treatment

著者 (4件)： LIU Tong-xu (Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN) ,  LIU Tong-xu (Guangdong Inst. of Eco-Environment and Soil Sci., Guangzhou, CHN) ,  LI Xiang-zhong (Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN) ,  LI Fang-bai (Guangdong Inst. of Eco-Environment and Soil Sci., Guangzhou, CHN)
資料名： Industrial & Engineering Chemistry Research  (Industrial & Engineering Chemistry Research)
巻： 49  号： 8  ページ： 3617-3622  発行年： 2010年04月21日 
JST資料番号： C0385C  ISSN： 0888-5885  CODEN： IECRED  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光触媒湿式スクラビングプロセスを開発し,メチルメルカプタン(CH₃SH)ガスの除去を検討した。本プロセスは,CH₃SHの溶液吸収,溶解CH₃SH/CH₃S^-のTiO₂固体表面への吸着,紫外線照射下の液相酸化から成っている。CH₃SH添加量,TiO₂量,溶液のpHを変えて実験した。pH<11.5では,CH₃SHの吸収が律速段階で,pH>11.5では,光反応が律速段階である。CH₃SH添加量が10gm^-3h^-1の場合,CH₃SH分解効率と臭気除去率が>95%の高いレベルにあることがわかった。3経路を有する分解機構を提案した。実際の臭気ガスを模倣した試料も,本法で処理した。

シソーラス用語： *汚染物質 ,  混合気体 ,  *臭気物質 ,  光触媒 ,  *光触媒反応 ,  *接触分解 ,  湿式法 ,  *スクラビング ,  *プロセス開発 ,  ガス吸収 ,  硫酸 ,  硝酸 ,  紫外線照射 ,  pH依存性 ,  酸化チタン ,  添加物効果 ,  反応機構 ,  脂肪族化合物 ,  チオール
準シソーラス用語： *ガス状汚染物質 ,  ガス状混合物 ,  臭気除去 ,  *光触媒分解 ,  水溶液相 ,  分解効率 ,  除去率 ,  模擬試験

分類 (3件)： 悪臭  (SB04010I) ,  光化学反応  (CB08020F) ,  反応操作(単位反応)  (XE01040I)

物質索引 (1件)： メチルメルカプタン

タイトルに関連する用語 (5件)： 臭気 ,  光触媒 ,  スクラビング ,  プロセス ,  開発