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J-GLOBAL ID：201002294672978064   整理番号：10A0898645

Cu_xO薄膜の抵抗のスイッチング性に対する紫外線照射の効果

Effects of Ultraviolet Illumination on Resistive Switching Properties of Cu_xO Thin Film

著者 (2件)： LIU Chih-Yi (National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN) ,  HSU Jing-Ming (National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49  号： 8,Issue 1  ページ： 084202.1-084202.3  発行年： 2010年08月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Al/Cu_xO/Cu構造の抵抗は高抵抗状態(HRS)と低抵抗状態(LRS)の間を,直流電圧を加えることで可逆的にスイッチ出来る。この挙動を説明するために伝導フィラメント模型を使うことが示唆された。HRSからLRSへの抵抗スイッチングは直流電圧を加えるか,紫外線照明,または加熱により誘導できる。したがって,伝導フィラメントの生成はパワーによることになり,電場は本質的でない。また紫外線照明及び電圧ストレスの抵抗スイッチングへの効果が静電的な力の役割を解析するために研究された。直流電圧付加により誘起されるHRSからLRSへの抵抗スイッチングは主として熱化学反応によるとすべきで,静電的な力も部分的に補助していた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化銅 ,  *スイッチング ,  *電気抵抗 ,  フィラメント ,  モデリング ,  *紫外線照射 ,  静電気
準シソーラス用語： 高抵抗 ,  低抵抗 ,  電気抵抗スイッチング

分類 (1件)： 継電器・スイッチ  (NA05060K)

引用文献 (19件)：

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タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  スイッチング ,  紫外線照射