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J-GLOBAL ID：201002295604590607   整理番号：10A0216097

飽和溶媒蒸気での処理したときのラメラ状ジブロック共重合体薄膜中の構造再配列

Structural Rearrangements in a Lamellar Diblock Copolymer Thin Film during Treatment with Saturated Solvent Vapor

著者 (4件)： DI Zhenyu (Technische Univ. Muenchen, Garching, DEU) ,  POSSELT Dorthe (Roskilde Univ., Roskilde, DNK) ,  SMILGIES Detlef-M. (Cornell Univ., New York) ,  PAPADAKIS Christine M. (Technische Univ. Muenchen, Garching, DEU)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 43  号： 1  ページ： 418-427  発行年： 2010年01月12日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(スチレン-b-ブタジエン)(P(S-b-B))ジブロック共重合体薄膜を溶媒蒸気中で処理したときの構造変化を調べた。試料はP(S-b-B)の希薄トルエン溶液をシリコンウエハ上に滴下して調製し,溶媒蒸気下でその場観察を行った。溶媒にはシクロヘキサンを用いた。初めの数分間で,ラメラの規則性及び配向が増大する遷移状態が見られた。最後には,膜は規則性がなくなることが分かった。更に,これらの現象の発現メカニズムについて議論した。

シソーラス用語： 溶媒 ,  蒸気 ,  ラメラ ,  *ジブロック共重合体 ,  *高分子薄膜 ,  構造解析 ,  *構造相転移 ,  遷移状態 ,  その場観察 ,  原子間力顕微鏡 ,  小角X線散乱 ,  ガラス転移点 ,  ウエハ【IC】 ,  *SBR【ゴム】 ,  シクロアルカン

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子の結晶構造  (BK10000K)

物質索引 (1件)： シクロヘキサン

タイトルに関連する用語 (6件)： 飽和 ,  溶媒蒸気 ,  ラメラ ,  ジブロック共重合体 ,  薄膜 ,  再配列