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J-GLOBAL ID：201002296205141587   整理番号：10A0724050

dcマグネトロンスパッタによりSi(100)基板上に形成したLa_0.7Sr_0.3MnO₃の皮膜特性に対する横方向のパラメータ変化

Lateral parameter variations on the properties of La_0.7Sr_0.3MnO₃ films prepared on Si (100) substrates by dc magnetron sputtering

著者 (2件)： SAHU Dipti Ranjan (Inst. of Materials Sci., Bhubaneswar 751013, IND) ,  SAHU Dipti Ranjan (School of Physics, Univ. of the Witwatersrand, Private Bag 3, Wits 2050, Johannesburg, South Africa)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 503  号： 1  ページ： 163-169  発行年： 2010年07月30日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： La_0.7Sr_0.3MnO₃(LSMO)はエレクトロニクスとスピントロニクス機器用の興味有る巨大磁気抵抗材料である。まだ充分研究されていないLSMOの平板マグネトロンスパッタ現象はターゲット材料の横方向の不均一エロージョンから生じる横方向の非均一皮膜特性である。それ故皮膜特性の横方向分布は析出パラメータに強く依存している。Si基板上にdcマグネトロンスパッタにより形成したLSMO皮膜の電気,磁気と構造特性を4点プローブ,振動試料磁力計とX線回折を用いて64mmの長さにわたって検討する。室温で緩衝層なしのこの皮膜のT_MIとT_cはそれぞれ245Kと325Kである。このことによりこれら材料がSiベース技術におけるスピン源として非常に興味深いものとなっている。従ってスパッタ析出LSMOはスピントロニクス機器用の有望なCMR材料になると考えられる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *蒸着膜 ,  マンガン化合物 ,  酸素酸塩 ,  *ランタン化合物 ,  *ストロンチウム化合物 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *不均一性 ,  電気的性質 ,  磁気的性質 ,  微細構造 ,  スピントロニクス
準シソーラス用語： *亜マンガン酸塩

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： DC ,  マグネトロンスパッタ ,  Si ,  皮膜特性 ,  横方向 ,  パラメータ