文献
J-GLOBAL ID:201002296546881554   整理番号:10A1034011

薄膜構造の引かきにおける応力分布に関して

On the stress distribution at scratching of thin film structures
著者 (2件):
資料名:
巻:号:ページ: 623-635  発行年: 2010年09月 
JST資料番号: H0021C  ISSN: 1547-0091  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
薄膜が基板より柔らかい薄膜/基板系の引きかきを数値的に分析し応力場の挙動を決定した。最大主応力,薄膜/基板界面に平行なせん断応力および界面に垂直な法線応力の応力場変数を用いて薄膜引きかきにおける剥離挙動を解釈した。金属に適切な硬化挙動を有する古典的な弾塑性材料,重合体に適切な硬化挙動を有する古典的な弾塑性材料および同じ重合体材料であるが感圧流を有する材料について調べた。その結果,次のことが分かった。1)高せん断応力が剥離開始と薄膜/基板界面に沿っての剥離成長の駆動力である,2)剥離開始に関連する応力場に対する感圧流の影響は定量的にも定性的にも小さい。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
プラスチック被覆 
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る