文献

J-GLOBAL ID：201002297006098733   整理番号：10A0490875

液晶素子中の多重分域整列層のソフトインプリトリソグラフィー

Soft Imprinting Lithography for Multi-Domain Alignment Layers in Liquid Crystal Devices

著者 (2件)： CHUN Ji-Yun (Yonsei Univ., Seoul, KOR) ,  SEO Dae-Shik (Yonsei Univ., Seoul, KOR)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 49  号： 4,Issue 1  ページ： 040210.1-040210.3  発行年： 2010年04月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 粗いポリジメチルシロキサン(PDMS)基板の分子規模ナノインプリントリソグラフィー複製を用いた液晶素子の整列層形成について述べた。三種類の研磨強度における成形構造とPDMSの表面レリーフ形態を系統的に調べ,数nm(場合によっては1nm)までの良好なリソグラフィー忠実度を実証した。工程条件及び鋳型と成形した材料の実験結果から,複製における分子規模の忠実度を用いて液晶分子を効果的に整列させる表面を作製できることを示した。PDMSナノ溝パターンは通常の研磨工程と同程度の効果を液晶整列に与えることを実証した。また,通常のPDMS表面上の線溝の人工トポグラフィーは液晶分子のアンカリング安定性に有意に影響することを示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *固体素子 ,  液晶 ,  *リソグラフィー ,  ポリジメチルシロキサン ,  研磨 ,  *表面構造 ,  アンカリング【液晶】 ,  分域 ,  分域構造
準シソーラス用語： *液晶素子 ,  *ソフトインプリトリソグラフィー ,  *表面レリーフ

分類 (1件)： 液晶一般  (BK03010L)

引用文献 (12件)：

• J. M. Geary, J. W. Goodby, A. R. Kmetz, and J. S. Patel: J. Appl. Phys.62(1987)4100.
• D. S. Seo, K. Muroi, and S. Kobayashi: Mol. Cryst. Liq. Cryst.213(1992)223.
• D. S. Seo, S. Kobatashi, and M. Nishikaw: Appl. Phys. Lett.61(1992)2392.
• D. S. Seo, K. Araya, N. Yoshida, M. Nishikawa, Y. Yabe, and S. Kobatashi: Jpn. J. Appl. Phys.34(1995) L503.
• D. J. Resnick, W. J. Dauksher, D. Mancini, K. J. Nordquist, T. C. Bailey, S. Johnson, N. Stacey, J. G. Ekerdt, C. G. Willson, S. V. Sreenivasan, and N. J. Schumaker: Vac. Sci. Technol. B 21(2003)2624.

タイトルに関連する用語 (4件)： 液晶素子 ,  多重 ,  分域 ,  整列